概述
創(chuàng)視新科技開發(fā)隱裂檢測(cè)模塊可同時(shí)適用于單晶及多晶硅片的隱裂檢測(cè)，除正確檢出隱裂外，還可同時(shí)檢出破片，配合創(chuàng)視孔洞檢測(cè)模塊，還可有限檢出硅片孔洞。
創(chuàng)視新科技開發(fā)隱裂檢測(cè)模塊可同時(shí)適用于單晶及多晶硅片的隱裂檢測(cè)，除正確檢出隱裂外，還可同時(shí)檢出破片，配合創(chuàng)視孔洞檢測(cè)模塊，還可有限檢出硅片孔洞。
- 硅片隱裂檢測(cè)設(shè)備
不論是在硅片車間，還是在電池車間，硅片隱裂的檢出都是一個(gè)難點(diǎn)，人工檢驗(yàn)或者傳統(tǒng)的光學(xué)檢出無(wú)法滿足大量檢測(cè)的需求，且檢出率很低。
機(jī)器視覺公司創(chuàng)視新科技全力打造的隱裂檢測(cè)模塊，采用定制開發(fā)的特殊光源，配合特殊檢測(cè)相機(jī)，可快速、準(zhǔn)確檢測(cè)出隱裂部位，為人工或自動(dòng)化分選設(shè)備提供正確的信號(hào)。
創(chuàng)視新科技開發(fā)隱裂檢測(cè)模塊可同時(shí)適用于單晶及多晶硅片的隱裂檢測(cè)，除正確檢出隱裂外，還可同時(shí)檢出破片，配合創(chuàng)視孔洞檢測(cè)模塊，還可有限檢出硅片孔洞。
隱裂檢測(cè)模塊為標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)模塊，可方便的集成入各類硅片分選機(jī)中。除此之外，該模塊還可集成在各類清洗上料設(shè)備中，在電池片生產(chǎn)開始前剔除不良品。
創(chuàng)視隱裂檢測(cè)模塊基本參數(shù)：
| 可檢測(cè)微隱裂紋大小 | 20µm（W）x200µm（L） |
| 檢測(cè)光源 | LED燈 |
| CCD相機(jī) | 4096pixel線掃描 |
| Pixel Size | 45µm |
| 視野大小 | 178mm×178mm |
| 檢測(cè)速度 | <1s/片 |
各類檢出的硅片隱裂產(chǎn)品：
硅片隱裂檢測(cè)系統(tǒng)優(yōu)勢(shì)
● 全進(jìn)口工業(yè)相機(jī)及工業(yè)鏡頭
● 優(yōu)化設(shè)計(jì)集成式光源系統(tǒng)
● 便捷式標(biāo)定及維護(hù)
● 可超過4000片每小時(shí)產(chǎn)能
● 結(jié)構(gòu)穩(wěn)定可靠，安裝支架精巧
● 菜單、參數(shù)簡(jiǎn)單明了，規(guī)格設(shè)置一目了然
● 全中文菜單及操作界面
● 適用于所有檢測(cè)分選設(shè)備
